반응형 산화막 형성하는 방법1 산화(Oxidation) 공정에 대해 알아보자! (feat. 반도체 공정) 안녕하세요. 8톤 트럭입니다. 오늘은 반도체 공정 중 산화에 대해 알아보는 시간을 가져보고자 합니다. 바로 레츠게릿!! 우선 우리가 이용할 Si을 산화시키는 이유부터 먼저 알아야할 것 같습니다. 우리는 왜 실리콘을 반도체 기판으로 사용할까요? 14족에 해당하는 원소는 Si 원소 말고도 많은데 말이죠. 그 이유는 여러가지가 있겠지만, 그중 하나는 바로 실리콘 산화막은 엄청나게 우수한 특성을 가지고 있기 때문인데요. 대표적인 실리콘 산화막의 특징은 다음과 같습니다. 1. 강한 전기 저항을 가지고 있어서 우수한 절연체이다. 2. 강한 전기장에서도 안정적으로 유지된다. 3. Si 표면에서 안정적이며, 만들어내기 쉽다. 4. Si 표면에서 성장할 때, 일정한 두께로 성장한다. 5. 실리콘 산화막은 도펀트의 확산을.. 2022. 4. 5. 이전 1 다음 반응형
